原标题：国家知识产权局：修正完善集成电路布图规划维护法令 助力芯片工业做大做强
上证报中国证券网讯（记者 陈芳）国家知识产权局局长申长雨4月24日在国务院新闻办新闻发布会上表明，下一步，将统筹推动各类知识产权法令和法规和准则规矩的制修订作业。
一是加速推动完结专利法细则修正，促进专利敞开答应、实用新型显着创造性检查、外观规划显着差异检查等新修正内容施行，积极地推动实用新型准则改革，做好我国参与海牙协议后的检查办理，全面融入全球外观规划系统。
二是加速新一轮商标法的修正证明，着力处理商标范畴歹意抢注、很多囤积等深层次对立和问题。
三是修正完善集成电路布图规划维护法令，习惯大规模集成电路开展需要，助力芯片工业做大做强，服务数字化的经济更好开展。
四是加速地舆标志专门立法，和谐地舆标志专门维护和商标维护两种形式，拟定地舆标志一致确定施行方案，完成地舆标志确定一致进口、一致出口，更好地发挥地舆标志在促进特色工业高质量开展、村庄复兴和文明传承等方面的重要作用。
五是加强大数据、人工智能、基因技能等新范畴新业态知识产权规矩研讨，助力相关范畴立异开展。一起，热心参与知识产权世界规矩拟定，更好对接高标准世界经贸规矩，助力高水平对外敞开。回来搜狐，检查更加多