日本佳能公司10月13日宣告，将推出fpa-1200nz2c纳米印花（nil）
据佳能介绍，传统的光刻设备将电路图画投射到涂有防腐剂的晶片上，而新产品就像邮票相同，在晶片上印上印有电路图画的掩模来完成这一方针。因为电路图画的传递进程不通过光学结构，因而能在晶片上精确再现掩模的纤细电路图画。
现在佳能的nil技能将对应5纳米节点逻辑半导体的形式的最小线纳米。此外，跟着掩模技能的开展，nil将供给10纳米的最小图画宽度，相当于2纳米节点。
5纳米芯片制作设备业界由asml主导，因而佳能的纳米打印办法将缩小其距离。
有报导称，佳能的配备也有几率会成为中美竞赛的新阵线。美国制止向中国出口euv设备。这是现在为止能制作出5纳米或更小芯片的仅有牢靠办法。
佳能的技能彻底逾越了光刻技能，能够将必要的电路图画印刷到硅晶片上。因为它的新颖性，现有的交易约束不太可能清晰制止它。
据悉，纳米压力机（nano press）是SK海力士和东芝作为光学光刻的低费用代替计划推动的，东芝的前存储器事业部担任人在纳米压力机商用化之前，曾对佳能的纳米压力机进行过测验。
佳能在2014年收买了纳米印花的前驱molecular imprints inc.对该技能进行了近10年的研讨。佳能还以2025年发动为方针，20年来初次在东京北部的宇都宫市建造照相设备新工厂。
电子元器件，电子元器件包含许多种类：整流桥，二极管，电容等各种IC类，更杂乱的还有整流模块等等。ASEMI
。很多高技能公司于20世纪60年代建立：1968年，建立英特尔公司。1969年，建立AMD。20
工艺根底 /
销售额将比2019年的596亿美元增加16%，达689亿美元，创下职业新纪录。全球
商场将持续增加，估计2021年达719亿美元，2022年将达761亿美元。
蓝图（ITRS）中被列为下一代32nm、22nm和16nm节点光刻技能的代表之一。国内外
商、资料商以及工艺商纷繁开端进入这一范畴，短短25年，现已获得很大发展。
光刻技能 /
光刻技能的具体介绍 /
用晶圆丈量机“MS-001”，该产品能对晶片进行高精度的对准丈量※1。 在逻辑和存储器等
晶圆丈量机新品 /
光刻技能，并企图靠它再次逆袭，日经新闻网也称，比照EUV光刻工艺，运用
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